Ekstrak + air panas

Proses ECC

Plat KLT sebelum di semprot NaOH 5% Sinar UV 366 nm

Penjenuhan toluen :etil asetat 2:3

Plat KLT setelah di semprot NaOH 5% Sinar UV 366 nm

Ekstrak + air panas

Proses ECC

Plat KLT sebelum di semprot NaOH 5% Sinar UV 366 nm

Penjenuhan toluen :etil asetat 2:3

Plat KLT setelah di semprot NaOH 5% Sinar UV 366 nm

Ekstrak + air panas

Proses ECC

Plat KLT sebelum di semprot NaOH 5% Sinar UV 366 nm

Penjenuhan toluen :etil asetat 2:3

Plat KLT setelah di semprot NaOH 5% Sinar UV 366 nm

Ekstrak + air panas

Proses ECC

Plat KLT sebelum di semprot NaOH 5% Sinar UV 366 nm

Penjenuhan toluen :etil asetat 2:3

Plat KLT setelah di semprot NaOH 5% Sinar UV 366 nm

Ekstrak + air panas

Proses ECC

Plat KLT sebelum di semprot NaOH 5% Sinar UV 366 nm

Penjenuhan toluen :etil asetat 2:3

Plat KLT setelah di semprot NaOH 5% Sinar UV 366 nm

Ekstrak + air panas

Proses ECC

Plat KLT sebelum di semprot NaOH 5% Sinar UV 366 nm

Penjenuhan toluen :etil asetat 2:3

Plat KLT setelah di semprot NaOH 5% Sinar UV 366 nm

Ekstrak + air panas

Proses ECC

Plat KLT sebelum di semprot NaOH 5% Sinar UV 366 nm

Penjenuhan toluen :etil asetat 2:3

Plat KLT setelah di semprot NaOH 5% Sinar UV 366 nm

Plat KLT sebelum di semprot NaOH 5% Sinar UV 366 nm

Ekstrak + air panas

Proses ECC

Penjenuhan toluen :etil asetat 2:3

Plat KLT setelah di semprot NaOH 5% Sinar UV 366 nm

Ekstrak + air panas

Proses ECC

Plat KLT sebelum di semprot NaOH 5% Sinar UV 366 nm

Penjenuhan toluen :etil asetat 2:3

Plat KLT setelah di semprot NaOH 5% Sinar UV 366 nm

Ekstrak + air panas

Proses ECC

Plat KLT sebelum di semprot NaOH 5% Sinar UV 366 nm

Penjenuhan toluen :etil asetat 2:3

Plat KLT setelah di semprot NaOH 5% Sinar UV 366 nm